Le centre de recherche Albany NanoTech, dans l'Etat de New York, a reçu les premiers composants de la nouvelle génération de machines de lithographie d'ASML. Cet équipement de pointe, destiné à la recherche et au développement, permettra de préparer les futures générations de semi-conducteurs et renforce les capacités américaines dans un domaine stratégique.

La machine repose sur la technologie de lithographie ultraviolette extrême (EUV) à haute ouverture numérique (High NA), considérée comme indispensable pour fabriquer les puces les plus avancées. D'une valeur d'environ 400 millions de dollars, elle permet de graver des circuits toujours plus fins sur les tranches de silicium. Les éléments livrés correspondent au châssis principal, tandis que les autres composants seront installés dans les prochaines semaines afin de finaliser l'assemblage.

Exploité par NY Creates en partenariat avec IBM, Micron et Tokyo Electron, Albany NanoTech est présenté comme l'équivalent nord-américain du centre de recherche belge Imec. Selon ses responsables, cette installation jouera un rôle central dans le développement des prochaines générations de technologies de fabrication de puces. La mise en service complète de la machine est attendue d'ici la fin de l'année.

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